nicomp 3000激光粒徑測定儀

基本概述：

nicomp 3000激光粒徑測定儀 是納米粒徑分析儀器，采用現(xiàn)在的動態(tài)光散射原理，利用的Nicomp多峰算法可以很的分析比較復(fù)雜多組分混合樣品。為實驗室的研究提供的分析技術(shù)。 測試范圍：0.3 nm – 10μm。

產(chǎn)品介紹：

Nicomp 380 采用動態(tài)光散射原理檢測分析顆粒系的粒度及粒度分布，粒徑檢測范圍 0.3 nm- 10μm。粒度分析復(fù)合采用 Gaussian 單峰算法和擁有技術(shù)的 Nicomp 多峰算法，對于多組分、粒徑分布不均勻液態(tài)分散體系的分析以及膠體體系的穩(wěn)定性分析具有*優(yōu)勢，其的解析度及重現(xiàn)性是其他同類產(chǎn)品*的。

工作原理：

動態(tài)光散射法(DLS)，有時稱為準(zhǔn)彈性光散射法（QELS），是一種成熟的非侵入技術(shù)，可測量亞微細(xì)顆粒范圍內(nèi)的分子與顆粒的粒度及粒度分布，使用技術(shù)，粒度可小于1nm。 動態(tài)光散射法的典型應(yīng)用包括已分散或溶于液體的顆粒、乳劑或分子表征。 懸浮在溶液中的顆粒的布朗運動，造成散射光光強(qiáng)的波動。 分析光強(qiáng)的波動得到顆粒的布朗運動速度，再通過斯托克斯-愛因斯坦方程得到顆粒的粒度。

儀器參數(shù)：

應(yīng)用領(lǐng)域：

· 醫(yī)藥領(lǐng)域：乳劑，注射劑，脂質(zhì)體，膠體，混懸劑，高分子，病毒，疫苗等；

· 半導(dǎo)體： CMP Slurry，芯片，晶圓加工等；

· 特殊化工品：墨水&噴墨，納米材料，化工染料，潤滑劑，清洗劑等。

• 其他：過濾產(chǎn)品，清潔度方面，食品飲料，化妝品等